在半导体、显示面板、光学镀膜等高科技产业中，一种名为“氧化铝靶材”的关键材料正悄然推动着技术的革新。

氧化锌（ZnO）是一种重要的宽禁带半导体材料，因其优异的光电性能、抗菌性、紫外线吸收能力和化学稳定性，在多个领域具有广泛应用。

氧化锌（ZnO）作为一种重要的宽禁带半导体材料，因其独特的物理化学性质和广泛的应用场景，近年来在材料科学领域备受关注。尤其是纯度高达99.99%-99.999%、粒度可调的高纯氧化锌粉末，已成为紫外防护、柔性电子、光学镀膜等领域的核心材料之一。本文将从其性质、制备方法到前沿应用进行全面解析。

​在半导体材料、光学镀膜和新能源技术的快速发展中，氧化锌（ZnO）靶材凭借其独特的物理化学性质，成为现代工业的“隐形冠军”。从手机屏幕的透明导电膜到航天器的抗辐射涂层，氧化锌靶材的身影无处不在。本文将深入解析氧化锌靶材的特性、制备工艺及其前沿应用，揭开这一材料的科技奥秘。

电镜金靶材的特点及应用

电镜银靶材的特点及应用

电镜铂靶材是电子显微镜（尤其是能谱分析EDS、X射线显微分析等）中常用的关键材料，具有独特的物理和化学特性。

电镜（电子显微镜）中使用的钯（Pd）靶材因其独特的物理和化学性质，在材料科学、催化研究、半导体等领域有重要应用

半导体衬底清洗技术

自 20世纪 70年代以来，薄膜技术得到了飞速发展，无论在学术上还是实际应用中都取得了可喜的成果。薄膜技术、薄膜材料和表面科学的相互结合推动了薄膜产品的全方位发展。随着科学技术的发展，各种特殊用途对薄膜技术和薄膜材料提出了各种各样的要求，首先要求薄膜和衬底材料结合牢固，成膜质量高，常用的薄膜衬底主要包括玻璃衬底、陶瓷衬底、单晶片衬底、塑料衬底和金属衬底等。