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几种常见的光学薄膜制备方法及应用
在光学薄膜发展的历程中,各种先进的薄膜制备技术不断应用到光学薄膜制备的技术中.这些技术不仅大大拓宽了光学薄膜可以利用的材料范围,而且极大地改进了光学薄膜的性能和功能,进而给光学薄膜提供了更为宽广深远的发展空间…
热电偶与热电阻的选择
热电偶与热电阻均属于温度测量中的接触式测温,尽管其作用相同都是测量物体的温度,但是他们的工作原理与特点却不尽相同.热电偶是温度测量中应用最广泛的温度器件,热电阻不需要补偿导线,而且比热电偶便宜. plc对应的…
粉末冶金成形新技术：温压技术、模壁润滑、高速压制技术等
流动温压技术(WarmFlowCompaction,简称WFC)是在粉末压制、温压成形工艺的基础上,结合了金属粉末注射成形工艺的优点而提出来的一种新型粉末冶金零部件近净成形技术.其关键技术是提高混合粉末的流动…
钼铼合金制备方法及应用
与真空熔炼方法相比,粉末冶金法制备钼铼合金的工艺相对比较简单,成本低,且相对较易实现工业化,因此,目前供售的产品几乎都是用粉末冶金法生产.但是粉末冶金法不容易控制合金锭中的杂质含量,一般将烧结锭再经真空熔炼可…
用于3d打印的金属粉末材料
金属3D打印是一种使用金属粉末直接打印金属零件的3D打印技术,又称为金属粉末烧结(SLM).3D打印金属粉末需具备良好的可塑性外,还必须满足粉末粒径细小、粒度分布较窄、球形度高、流动性好和松装密度高等要求.目…
陶瓷靶材和金属靶材的区别
镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源.简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同…
影响磁控靶材溅射电压的分析
在反应磁控溅射镀膜过程中,当真空设备的环境条件确定,靶电源控制面板的设置参数不变时,磁控靶的溅射电流会逐渐减小(直至"阴极中毒"和"阳极消失")随着反应气体(如氮气和氧气)的压力逐渐增加.同时,溅射工作电压会…
柔性电子技术带来的惊艳
柔性电子，是一种技术的通称，目前由于处于起步阶段而称谓不一又称为塑料电子、印刷电子、有机电子、聚合体电子等，所以还没有统一明确的定义，具体来说，柔性电子可概括为是将有机或无机材料电子器件制作在柔性或可延性塑料…
碳化硅在导热材料和吸波材料中应用广阔
随着社会的发展和科学技术的进步,电子设备和仪器越来越趋向精密化、小型化和高性能化,而效能提升随即带来对导热散热的高需求.其中,碳化硅(SiC)由于具有良好的耐磨性、高温力学性、抗氧化性、宽带隙等特性,在半导体、核能、国防及空间技术等高科技领域具有广阔的应用前景.碳化硅具有的高导热系数奠定了其在第三代半导体材料中的地位,促进了其在新一代芯片技术和导热散热技术领域的推广应用.
常用的光学镀膜材料，你知道多少？
氧化物类:三氧化二钇、二氧化铈、氧化镁、二氧化钛、二氧化硅、一氧化硅、二氧化锆、三氧化二铝、氧化铪等. 使用高密度的钨舟皿蒸发,在200°C的基板上蒸着二氧化铈,得到--个约为2.2的折射率,在大约3000n…

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