中诺新材欢迎您的光临！
  • 中诺产品
  • 技术资料
搜索
我的购物车 (0)
购物车还没有商品，赶紧选购吧
  1. 首页
  2. 靶材产品
  3. 粉末产品
  4. 颗粒块锭
  5. 丝片耗材
  6. 元素查询
    点击可查询包含该元素所有产品信息
  7. 中诺推荐
  8. 技术服务
  9. 客户服务
400-690-6700
首页 > 技术服务
技术服务分类
  • 蒸镀的加热方式
    (1)电阻加热;(2)感应加热;(3)电子束加热;(4)雷射加热;(5)电弧加热.
  • ITO透明导电薄膜发展历程
    透明导电氧化物(Transparent Conductive Oxide,TCO)是一种在可见光光谱范围(380nm < λ < 780nm)透过率很高且电阻率较低的薄膜材料.
  • 磁控溅射镀膜设备的工作原理
    磁控溅射镀膜设备的磁控溅射靶是采用静止电磁场,而磁场是曲线型的,对数电场用于同轴圆柱形靶
  • 薄膜内应力产生因素
    磁控溅射镀膜中,薄膜由于各种原因会产生内应力,不将其控制在合理的范围内会导致薄膜脱落等负面情况,大大减少使用寿命
  • 磁控溅射镀膜技术的物理过程
    离子轰击靶材表面时与靶材原子发生动量交换而在靶材内部引发一系列碰撞;一部分靶材原子从碰撞中获得反冲动能从而挣脱表面结合能的束缚而成为溅射原子
  • 薄膜沉积—磁控溅射法
    磁控溅射法具有设备简单、镀膜面积大、基面升温缓慢以及成本相对较低的特点,在科研领域得到了广泛的应用
  • 磁控溅射工艺参数--衬底偏压
    在偏压的作用下,溅射出来的离子获得动能,加速飞向衬底并对衬底进行轰击,此时,衬底表面结合不牢固的原子会被打掉,这样子会留下一些结合紧密,缺陷少的薄膜原子,提高成膜质量
  • 磁控溅射镀膜要点
    磁控溅射是一种涉及气态等离子体的沉积技术,该等离子气体被生成并限制在一个包含要沉积的材料的空间内,溅射靶材的表面被等离子体中的高能离子侵蚀,释放出的原子穿过真空环境并沉积在基板上以形成薄膜.
  • 溅射镀膜技术的应用
    目前广泛使用的硬化膜是水溶液电镀铬.电镀会使钢发生氢脆,而且电镀速度慢,造成环境污染.
  • 磁控溅射镀膜技术的发展
    溅射镀膜是指在真空室中,利用荷能粒子轰击靶材表面,通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子,并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术.
< 上一页 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 下一页 >
  • 专业生产，品质保障
  • 放心购物，急速配送
  • 贴心服务，售后无忧
购物指南
购物流程
配送方式
付款方式
发票问题
服务售后
服务协议
隐私政策
售后政策
返修/退换货
关于我们
了解中诺
企业文化
加入中诺
联系我们

服务热线

400-690-6700

地址：北京市海淀区上地东路25号3层

电话：010-52860970

邮箱：info@znxc.cn

关注我们

微信商城

京ICP备19057082号 © 2016-2019 中诺新材版权所有

联系客服

400-690-6700
销售咨询
销售咨询
售后服务
技术服务
info@znxc.cn