真空溅射EMI具有高导电率和高电磁屏蔽效率等特点.可广泛应用于通讯制品、电脑、便携式电子产品、消费电子、网络硬件、医疗器械、家用电子产品、航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽.适用于各种塑胶制品的金属屏蔽。

EMI溅射镀膜的特点:

1、价格低;

2、金属膜厚度仅为0.5-2μm,不影响组装

3、真空溅射是彻底的环保制程,绝对无污染

4、溅射材料无限制

可用于屏蔽镀膜的溅射靶材有铜、铬、银、金、不锈钢、铝、二氧化硅等.

这些溅射靶材可用于任何室温下的固体导电金属、有机材料、绝缘材料,而且成膜致密均匀,膜厚易于控制.附着力强,可与多种不同溅射材料同时使用,制备多层薄膜。

银溅射靶材

银(Ag)为过渡金属的一种，在自然界中有单质存在，但绝大部分是以化合态的形式存在于银矿石中。银的理化性质均较为稳定，导热、导电性能很好，质软，富延展性，其反光率极高，可达99%以上，有许多重要用途。它在真空下蒸发以生产半导体、传感器、燃料电池和光学涂层.

铝溅射靶材

铝是一种银白色的金属材料.有延展性。铝的电导率超过了铜，在远距离传输时经常代替铜。以其轻、良好的导电和导热性能、高反射性和耐氧化而被广泛使用.铝溅射靶材广泛应用于航空航天、汽车照明、OLED、光学等行业.一些高纯度铝靶材用于半导体芯片、平板显示器和太阳能电池行业.

铬溅射靶材

铬是一种钢灰色、有光泽、坚硬且易碎的金属,主要存在于铬铅矿中。需要高度抛光以防止失去光泽,铬的熔点为1907℃.属于高熔点材料。铬溅射靶材广泛应用于五金工具镀膜、装饰镀膜、平板显示器镀膜.涂膜厚度一般为2~10um,涂膜具有高硬度、低磨损、耐冲击、抗热冲击和高附着力等特性.