几种常见的PVD镀膜工艺包括溅射镀膜、热蒸发、电子束蒸发和离子镀。每种涂层工艺都有独特的特点和优点，工艺的最佳选择取决于具体应用和所用材料。

溅射镀膜

溅射镀膜是一种 PVD镀膜工艺，其中金属或陶瓷等靶材受到高能离子的轰击。这导致靶材料的原子从表面喷射或溅射，然后沉积到基板上。溅射镀膜中使用的离子可以是正离子，也可以是负离子，所用离子的类型会影响涂层的性能。

热蒸发

热蒸发是一种 PVD 涂层工艺，其中源材料被加热直至蒸发。然后蒸气沉积到基材上，形成薄而均匀的层。该工艺通常用于对离子轰击敏感的涂层材料或需要对涂层过程进行高度控制的应用。

电子束蒸发

电子束蒸发是一种 PVD涂层工艺，其中使用聚焦电子束来加热和蒸发源材料。然后蒸气沉积到基材上，形成涂层。该工艺可以更精确、更受控地沉积涂层材料，这使其适用于需要高精度的应用。

离子镀

离子镀是一种PVD镀膜工艺，其中将含有镀膜材料原子的气体引入真空室。气体被电离，然后离子被加速并导向基材，在那里它们沉积形成涂层。与其他 PVD 工艺相比，该工艺可实现更均匀一致的涂层，因此适用于需要高度均匀性的应用。