匀胶机

匀胶机又称甩胶机、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋涂仪、甩胶机或均胶机。

适用于微电子、半导体、制版、新能源、生物材料、薄膜、光学及表面涂覆等工艺。

其工作原理是高速旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂布在基片上（如下图所示）。

通过在片托上产生负压，将需要旋涂的基底材料吸附在片托上，胶液滴注在基底材料的表面，通过精确调节电机

的旋转速度，以此来改变离心力大小，同时通过滴胶装置控制胶液的流量，

来达到制备薄膜所需的厚度，另外薄膜厚度也取决于旋涂时间，胶液的粘度，涂覆的温度和湿度等环境因素（如下图）。

应用方向：

光刻工艺：在半导体器件的制造过程中，匀胶机用于涂覆光刻胶，以实现高分辨率的图形转移。

薄膜沉积：在制造过程中，有时需要在基板上沉积其他薄膜，匀胶机可以保证薄膜的均匀性。

封装工艺：在封装过程中，匀胶机也可用于涂覆保护材料，以确保芯片的稳定性和性能。

Wisdom威德®TSC系列小巧型匀胶机 

型号：TSC-150T（实图拍摄）

Wisdom威德®TSC系列小巧型匀胶机是一款桌上型实验室匀胶机，采用了采用触摸屏幕控制，配合精密的运动控制系统，可以实现高精度、高均匀度

的匀胶操作。

设备参数

型号：TSC-150T

适用晶元尺寸范围：Ø 5~100mm；

旋涂速度：100~10000rpm； 

转速分辨率：1rpm；

旋涂加速度：100-10000rpm/s； 

最大旋涂时间：3000s； 

旋涂时间精度：0.1s；

产品特点

01产品体积小巧

产品设计小巧，适合安装在手套箱，通风橱等特定环境中。

示例图，手动测量，尺寸会有些许误差

02显示屏

4.3英寸彩色触屏控制，易学易用

示例图，型号不同，界面颜色稍有区别

03单步快速旋涂和多步编程旋涂

采用高级PLC程序控制，可编程，实现快速旋涂和多步编程旋涂；

多步编程旋涂可编程10组程序，每组程序5步；

运行参数如转速、转动时间可实时显示。

单步快速旋涂操作界面

多步编程旋涂程序编辑界面

04内腔

内腔直径150mm，内腔采用独特的凹面防溅设计； 

PP材料旋涂内腔，耐腐蚀； 

采用分体式结构，易清洁和移动；

05电机

马达功率100W，同类型最大，确保样品旋转平稳；

具有电机进胶保护功能；

管路易疏通。

06吸盘

标配吸盘一套（ 10mm、25mm、2英寸）

①载物盘；②O圈；③中央抽气孔；④真空吸附槽

07配套隔膜真空泵

隔膜真空泵

☆ 采用电磁式电机，隔膜密封气室，保证气体单向流动，真空度高；

☆ 非油泵式设计，气室流通气体相对隔离，无污染，压缩空气更纯净；

☆ 真空泵设计结构合理，小体积，质量轻，工作噪音小；

☆ 汽缸活塞采用新型耐磨、耐腐蚀材料，密封性能好，使用寿命更长；

☆ 提包式外型设计，使用更方便，散热效果更佳；

☆ 表面静电喷涂，附着力更强，抗皲裂脱色；

☆ 适合多种仪器配套使用，可用于真空抽滤装置，真空抽滤瓶，多用途溶剂过滤器，多联过滤器，固相萃取仪，

   真空干燥皿等多种实验设备。