一、核心特点

1. 力学性能突出，硬度远高于单一钴靶，耐磨、抗腐蚀能力强，能延长薄膜使用寿命。

2. 溅射兼容性好，可通过磁控溅射等技术制备均匀致密的薄膜，成膜质量稳定。

3. 成分可精准调控，通过调整钴、钽、硼的比例，适配不同场景的性能需求。

4. 结合力优异，与基材（如钢、陶瓷）的附着力强，薄膜不易脱落、开裂。

二、主要应用

1. 磁性薄膜领域，用于制备高密度磁记录介质、磁性传感器薄膜，提升存储容量和传感灵敏度。

2. 耐磨防护涂层，应用于机械零件、刀具、模具表面，增强其抗磨损和抗腐蚀能力。

3. 电子器件领域，作为半导体、集成电路中的功能性薄膜材料，优化器件导电性和稳定性。

4. 航空航天、汽车工业，用于关键部件的表面改性，提升部件在极端环境下的使用寿命。