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  • 陶瓷靶材开裂的原因和安装分享
    生产中使用的冷却水温度与镀膜线实际水温存在差异，导致使用过程中靶材开裂。裂纹形成通常发生在陶瓷溅射靶材（如氧化物、碳化物、氮化物等）和脆性材料溅射靶材（如铬、锑、铋等）中。陶瓷或脆性材料目标始终包含固有应力。…
  • 真空镀膜入门概念，非常全面！（三）
    真空镀膜 工艺
  • 真空镀膜入门概念，非常全面！（二）
    真空镀膜入门概念-镀膜设备
  • 真空镀膜入门概念，非常全面！（一）
    气相沉积技术是近30年来迅速发展的一门新技术，应用较早，但受真空技术和其它相关技术的限制，发展速度较慢。直到二战时期，法西斯德国将这技术服务于战争，制备各种军用光学镜片和反光镜，从而使这一技术在光学工业中得到迅速发展，并用渐形成了薄膜光学，成为光学的重要的分支。它不只是真空应用技术，而是综合了物理、化学一系列的新技术的结果。
  • 关于磁控溅射中遇到的问题，很全面！
    1.磁控溅射&磁性靶材启辉问题 a.增强磁场Bn300-700GS b.减小靶材厚度2-3mm c.提高工作气压 d.排除靶面脏污 2.降低表面粗糙度 a.热处理 b.控制工艺参数 c.机械抛光 d.化学抛光 e.电化学抛光 f.液相法镀
  • 锂的介绍和应用范围
    因为锂的化学活性强，将锂加入熔融的金属或合金中，就会与金属或合金中诸如氢、氧、硫、氮等气体发生反应生成密度小而熔点低的化合物，不仅能除去这些气体，使金属变得更致密，还能消除金属中的气泡以及其它缺陷，从而改善金…
  • 磁阻效应巨大的材料-二碲化钨的使用
    磁阻效应巨大的材料-二碲化钨的使用
  • 金属表面改性技术-电镀
    .电镀的定义及原理 电镀是一种利用电化学性质，在镀件表面上沉积所需形态的金属覆层的表面处理工艺。 电镀原理：在含有欲镀金属的盐类溶液中，以被镀基体金属为阴极，通过电解作用，使镀液中欲镀金属的阳离子在基体金属表面沉积，形成镀层。如图1所示。 电镀的目的：获得不同于基体材料，且具有特殊性能的表面层，提高表面的耐腐蚀性及耐磨性。
  • 热处理过程中的可能出现的缺陷及控制
    钢一般都要进行热加工和热处理，以获得较高的强韧性或其他特殊性能。但是，加热温度过高，反而会导致钢的机械性能的恶化，甚至造成材料的报废。
  • 金属表面改性技术-气相沉积技术
    气相沉积技术是指将含有沉积元素的气相物质，通过物理或化学的方法沉积在材料表面形成薄膜的一种新型镀膜技术。根据沉积过程的原理不同，气相沉积技术可分为物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)两大类。
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