中诺新材欢迎您的光临！
  • 中诺产品
  • 技术资料
搜索
我的购物车 (0)
购物车还没有商品，赶紧选购吧
  1. 首页
  2. 靶材产品
  3. 粉末产品
  4. 颗粒块锭
  5. 丝片耗材
  6. 元素查询
    点击可查询包含该元素所有产品信息
  7. 中诺推荐
  8. 技术服务
  9. 客户服务
400-169-8600
首页 > 技术服务
技术服务分类
  • PVD沉积方式的比较（一）
    PVD（Physical Vapor Deposition），在真空条件下，采用物理方法，使材料源表面气化成原子、分子或离子，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。
  • 离子束溅射镀膜设备的优缺点
    离子束溅射镀膜
  • PVD技术中的几种电源
    电弧离子镀膜中靶材蒸发和电离的实现必须依靠电弧电源提供能量，在实际镀膜过程中，该电源要能自动检测灭弧现象并自动引弧，保证镀膜过程中的连续性和膜层的均匀性；此外，电弧电源的稳弧性能尤其是最小稳弧电流对膜层的一致性、效率性和光洁度影响很大。一台多弧离子镀膜机所配电弧电源少则几台，多则十几台，甚至几十台。
  • 溅射薄膜的特点
    镀制的膜层厚度是否可以控制在预定的数值上，称为膜厚可控性。所需要的膜层厚以多次重复性再现，称为膜厚重复性。由于真空溅射镀膜的放电电流和靶电流可以分别控制。通过控制靶电流可以控制膜厚。所以，溅射镀膜的膜厚可控性的重要性较好，能够可靠地镀制预定厚度的薄膜。并且，溅射镀膜可以在较大表面上获得厚度均匀的膜层。
  • PVD真空镀膜技术原理及优点
    PVD( Physical Vapor Deposition)即物理气相沉积，分为：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜和真空溅射镀;通常说的NCVM镀膜，就是指真空蒸发镀膜。
  • 蒸发镀膜可以采用的蒸发源有哪些类型
    镀膜行业中可以应用蒸发的方式实现薄膜沉积。利用这种薄膜沉积方法，将用于沉积的源材料在真空中蒸发，蒸汽粒子即可以自由地移动到基材的表面。在到达基材衬底时，蒸发的材料沉降并凝结回固态，在基材上形成薄膜。
  • PVD前清洗
    清洗是通过化学或(及)物理的方法将工件上的油污、锈迹、灰尘等去除干净，确保工件获得较好的涂层结合力和生产的顺利进行。清洗是PVD涂层前必不可少的一道工序，也是PVD涂层生产中最重要的工艺，清洗出了问题，涂层生产不得不延迟、涂层过程可能中断、或涂层结合力出现问题而导致客户投诉和赔偿，尤其是在涂层设备的技术能力不高的情况下，清洗出了问题，更容易发生上述风险。
  • 高真空镀膜设备的环境要求
    由于高真空镀膜设备要在真空条件下工作，因此该设备要满足真空对环境的要求。我国制定的各类真空镀膜设备的行业标准(包括真空镀膜设备通用技术条件、真空离子镀膜设备、真空溅射镀膜设备、真空蒸发镀膜设备)都对环境要求作了明确规定。 只有满足了真空镀膜设备对环境的要求，才能使该设备正常运转，加上正确的镀膜工艺，方能生产出合格的镀膜产品。
  • 如何清洗石墨坩埚？
    石墨坩埚虽然具有体积密度高、耐高温、传热快、耐酸碱腐蚀、耐高温、耐氧化等特点，但对于单个原料的精炼来说，使用坩埚后的清洗工作非常麻烦。清洁石墨坩埚的首要任务是清除坩埚中的化学物质，然后进行清洁。我们需要根据石墨坩埚中残留的物质来决定要清洗什么。
  • 真空镀膜种类及优缺点
    真空镀膜种类及优缺点
< 上一页 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 下一页 >
  • 专业生产，品质保障
  • 放心购物，急速配送
  • 贴心服务，售后无忧
购物指南
购物流程
配送方式
付款方式
发票问题
服务售后
服务协议
隐私政策
售后政策
返修/退换货
关于我们
了解中诺
企业文化
加入中诺
联系我们

服务热线

400-169-8600

地址：北京市海淀区上地东路25号3层

电话：010-52860970

邮箱：info@znxc.cn

关注我们

京ICP备19057082号 © 2016-2019 中诺新材版权所有

联系客服

400-169-8600
销售咨询
销售咨询
售后服务
技术服务
info@znxc.cn