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陶瓷靶材和金属靶材的区别
镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源.简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同…
影响磁控靶材溅射电压的分析
在反应磁控溅射镀膜过程中,当真空设备的环境条件确定,靶电源控制面板的设置参数不变时,磁控靶的溅射电流会逐渐减小(直至"阴极中毒"和"阳极消失")随着反应气体(如氮气和氧气)的压力逐渐增加.同时,溅射工作电压会…
柔性电子技术带来的惊艳
柔性电子，是一种技术的通称，目前由于处于起步阶段而称谓不一又称为塑料电子、印刷电子、有机电子、聚合体电子等，所以还没有统一明确的定义，具体来说，柔性电子可概括为是将有机或无机材料电子器件制作在柔性或可延性塑料…
碳化硅在导热材料和吸波材料中应用广阔
随着社会的发展和科学技术的进步,电子设备和仪器越来越趋向精密化、小型化和高性能化,而效能提升随即带来对导热散热的高需求.其中,碳化硅(SiC)由于具有良好的耐磨性、高温力学性、抗氧化性、宽带隙等特性,在半导体、核能、国防及空间技术等高科技领域具有广阔的应用前景.碳化硅具有的高导热系数奠定了其在第三代半导体材料中的地位,促进了其在新一代芯片技术和导热散热技术领域的推广应用.
常用的光学镀膜材料，你知道多少？
氧化物类:三氧化二钇、二氧化铈、氧化镁、二氧化钛、二氧化硅、一氧化硅、二氧化锆、三氧化二铝、氧化铪等. 使用高密度的钨舟皿蒸发,在200°C的基板上蒸着二氧化铈,得到--个约为2.2的折射率,在大约3000n…
合金熔炼常见问题汇总
1、常用的熔炼方法及加热原理: 冲天炉熔炼:利用焦炭燃烧产生热量使合金融化. 电弧炉熔炼:利用电弧产生的热量来熔炼合金. 感应炉熔炼:利用交流电感应作用是金属本身产生热量来熔化金属的一种熔炼方法固溶强化:指形成固溶体使合金强化的方法时效强化:通过热处理利用合金的相变产生第二相微粒,这样的强化加时强化变质处理:是在熔融的合金中加入少量的一种或几种元素(或加化和物起作用而得),改变合金的结晶组织,从而改善机械性能
新一代半导体材料——氧化镓的优点和应用
氮化镓(GaN)是一种高性能化合物半导体.是一种III-V直接带隙化合物半导体,市场上第一代半导体是硅,主要解决数据运算、存储的问题;第二代半导体是以砷化镓为代表,它被应用到于光纤通讯,主要解决数据传输的问题…
PVD镀膜知识问答(二)
答:PVD相比CVD要薄,CVD的涂层厚度是10~20μm,而PVD的涂层厚度只有3~5μm左右.PVD的处理温度大概在500℃左右,而CVD的炉内温度在800~1000℃.由此可见,正因为温度很高,所以CV…
PVD镀膜知识问答
答:PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是,两者都属于表面处理的范畴,都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面. 答:采用PVD镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和…
影响真空镀膜性能的因素有哪些
蒸发速率对蒸镀涂层的性能影响蒸发速率的大小对沉积膜层的影响比较大.由于低的沉积速率形成的涂层结构松散易产大颗粒沉积,为保证涂层结构的致密性,选择较高的蒸发速率是十分安全的.当真空室内残余气体的压力一定时,则轰…

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