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一文了解氮化铝陶瓷
氮化铝(AlN)是一种综合性能优良的新型陶瓷材料,具有优良的热传导性,可靠的申绝缘性,低的介电常数和介电损耗.无毒以及与硅相匹配的热膨胀系教等一系列优良特性.被认为是新-代高集程度半导体基片和电子器件封装的理…
一文了解高熵合金
高熵合金的非晶形成能力较强,某些高熵合金能在铸态组织中形成非晶相.而传统合金要获得非晶组织,需要极大的冷却速度将液态原子无规则分布的组织保留到室温.非晶态金属的研究是近年来才兴起的,由于结构中无位错,具有很…
半导体制造产业链的三大类材料
根据芯片材质不同,分为硅晶圆片(第一代半导体)和化合物半导体,其中硅晶圆片的使用范围最广,是集成电路IC制造过程中最为重要的原材料.硅晶圆片全部采用单晶硅片,应用于电力电子上的硅材料纯度要求更高,通常要求纯度…
新型导热材料石墨烯的介绍及应用
电子信息领域是石墨烯最重要的应用领域.该领域的产业化决定着石墨烯的真正价值和无可替代性.目前研究热点在石墨烯传感器、石墨烯柔性电子器件、石墨烯逻辑电路等. 石墨烯具有优良的导电性和极大的比表面积,在储能领域一…
坩埚的用途和分类
坩埚是用极耐火的材料(如粘土、石墨、瓷土或较难熔化的金属)所制的器皿或熔化罐.坩埚为一陶瓷深底的碗状容器.当有固体要以大火加热时,就必须使用坩埚.因为它比玻璃器皿更能承受高温. 坩埚使用时通常会将坩埚盖斜放在坩埚上,以防止受热物跳出,并让空气能自由进出以进行可能的氧化反应.
一文看懂电子束与离子束加工工艺
电子束与离子束加工工艺
不同坩埚在实验室怎么用
坩埚是化学仪器的重要组成部分，它是熔化和精炼金属液体以及固液加热、反应的容器，是保证化学反应顺利进行的基础.
陶瓷靶材介绍
陶瓷靶材是比较脆的靶材,通常陶瓷靶材都会绑定背板一起使用.背板除了在溅射过程中可支撑陶瓷靶材,还可以在溅射过程中起到热传递的作用.陶瓷靶材的种类很多,应用范围广泛,主要用于微电子领域,显示器用,存储等领域.陶瓷靶材作为非金属薄膜产业发展的基础材料,已得到空前的发展.
膜料系列研讨——明明成膜是TiO2，为啥膜料用Ti3O5?
TiO2分子量79.88,密度4.26,熔点1850℃,在真空度为10-2Pa时的汽化温度为2200℃.TiO2是具有高度合于需要性质的薄膜材料,它坚硬,抗化学腐蚀,在整个可见波段与近红外波段光谱区都是透明的,几乎是可见光波段折射率最高的膜料,在薄膜领域被广泛应用.
磁控溅射靶材镀膜过程中,影响靶材镀膜沉积速率的3个因素
磁控溅射是一种物理气相沉积方法,它可以通过使用施加到二极管溅射靶上的特殊形成的磁场来沉积各种材料,包括金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材等.沉积速率或成膜速率是衡量磁控溅射机效率的重要参数.

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