中诺新材欢迎您的光临!
[公告]中诺新材价格体系变更,官网价格为定金,实际价格以双方协商合同为准!
登录
注册
|
我的订单
|
会员中心
|
手机访问
中诺产品
技术资料
搜索
登录
我的购物车 (
0
)
购物车还没有商品,赶紧选购吧
首页
靶材产品
常规金属靶材
贵金属靶材
稀土金属靶材
非金属靶材
合金靶材
陶瓷靶材
粉末产品
常规金属粉末
贵金属粉末
非金属粉末
化合物粉末
合金粉末
稀土及相关粉末
颗粒块锭
常规金属颗粒
贵金属颗粒
稀土金属块粒
非金属颗粒
合金材料颗粒
化合物镀膜材料
丝片耗材
金属丝杆棒
金属箔片板
晶体基片
蒸发耗材
合金材料
元素查询
点击可查询包含该元素所有产品信息
H
氢
He
氦
Li
锂
Be
铍
B
硼
C
碳
N
氮
O
氧
F
氟
Ne
氖
Na
钠
Mg
镁
Al
铝
Si
硅
P
磷
S
硫
Cl
氯
Ar
氩
K
钾
Ca
钙
Sc
钪
Ti
钛
V
钒
Cr
铬
Mn
锰
Fe
铁
Co
钴
Ni
镍
Cu
铜
Zn
锌
Ga
镓
Ge
锗
As
砷
Se
硒
Br
溴
Kr
氪
Rb
铷
Sr
锶
Y
钇
Zr
锆
Nb
铌
Mo
钼
Tc
碍
Ru
钌
Rh
铑
Pd
钯
Ag
银
Cd
镉
In
铟
Sn
锡
Sb
锑
Te
碲
I
碘
Xe
氙
Cs
铯
Ba
钡
LaLu
镧系
Hf
铪
Ta
钽
W
钨
Re
铼
Os
锇
Ir
铱
Pt
铂
Au
金
Hg
汞
Tl
铊
Pb
铅
Bi
铋
Po
钋
At
砹
Rn
氡
La
镧
Ce
铈
Pr
镨
Nd
钕
Pm
钷
Sm
钐
Eu
铕
Gd
钆
Tb
铽
Dy
镝
Ho
钬
Er
铒
Tm
铥
Yb
镱
Lu
镥
中诺推荐
技术服务
生产工艺介绍
特色服务介绍
特色产品介绍
常见问题汇总
相关专业知识
行业相关信息
客户服务
购物指南
服务售后
关于我们
400-169-8600
账户
登录
注册
购物车
0
购物车还没有商品,赶紧选购吧
首页
>
技术服务
技术服务分类
生产工艺介绍
特色服务介绍
特色产品介绍
常见问题汇总
相关专业知识
行业相关信息
影响ITO薄膜导电性能的几个因素
制备ITO薄膜时要得到不同的膜层厚度比较容易,而ITO薄膜的电阻率(ρ)的大小则是ITO薄膜制备工艺的关键。
表面覆膜技术
表面覆膜技术包括热喷涂、真空镀、电镀。
蒸镀的加热方式
蒸镀的加热方式包括几种?各具有什么特点呢?
PVD技术常用的方法和介绍
PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)
靶材在真空镀膜中的应用
利用溅射进行镀膜的几个特点
溅射靶材使用指南
溅射靶材的溅射准备、靶材清洁、靶材安装等说明。
PVD前清洗
清洗是通过化学或(及)物理的方法将工件上的油污、锈迹、灰尘等去除干净,确保工件获得较好的涂层结合力和生产的顺利进行
清洗之主要方法和步骤
清洗主要方法和步骤应包括:化学药剂喷淋、化学药剂浸泡与超声波清洗、漂洗、烘干。
溅射靶材时靶材安装过程中的注意事项
靶材安装过程中最重要的注意事项是一定要确保在靶材和溅射枪冷却壁之间建立很好的导热连接
电子枪蒸镀系统原理
利用电子枪所射出之电子束轰击待镀材料
<
上一页
29
30
31
32
33
34
35
36
37
38
39
下一页
>
联系客服
联系客服
400-169-8600
销售咨询
销售咨询
售后服务
技术服务
info@znxc.cn